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三点钟,会议准时开始。

他们这个小组有九个人,包括林晓在内,有四位研究员,剩下的则主要是助理研究员和实习研究员。

相对于其他一些材料的研究团队来说,这個人员的数量显然还是太低了。

当然,对于搞研究的小组来说,数量并不重要,质量更加重要,有时候一个天才的想法,就能够将研究进度给推进到最后。

而他们这个小组的人,当然就属于质量向的小组了。

林晓这个开挂的就不用说了,之前林晓打电话的那位赵升,本身除了是计算材料学方面的大脑之外,在实验上同样是一位大牛,在国内很是出名。

至于另外两位研究员,其中一位也是计算材料方面的大牛,而另外一位研究员则是实验方面的大牛。

如果不是有这三位大牛一起,林晓想要这么快就将晶体结构给确定下来,估计还需要一段时间才行。

会议室中,林晓在大屏幕上重新用软件给在场的几位展示了一下这种硅晶体在X光的照射下,对X射线的衍射图像,X光的光源是一个平面波,其经过透镜之后,最后在另外一块平面上形成了一个正方形地投影,这就是这个透镜的作用,它能够将X光的辐照范围局限于一个正方形之内。

这对于芯片的生产速度是很有效果的,毕竟现在的芯片都是正方形的,这也是为了提高晶圆的利用率,晶圆因为工艺的缘故,只能做出圆形,而为了更好地利用上这个圆形的每一块,芯片也就成为正方形了。

而X光的辐照范围变成正方形,在处理硅晶圆的时候就更加方便了,到时候再凭借着X光的强效率,届时处理芯片的速度也将大大提升,阿斯麦尔的EUV光刻机每小时能够处理两百片硅晶圆,差不多每分钟3片多硅晶圆。

如果以苹果公司的A15芯片面积来算,假如忽略硅晶圆边角料的损耗,一片硅晶圆就能够生产650颗A15芯片,一个小时下来就能生产13万颗芯片,一天就是三百多万。

但是如果用上了X光源,每小时处理的硅晶圆恐怕能够轻易地达到两百片以上,说不定能够达到4片。

这就是他们的X光源一旦运用于规模生产后的优点。

而后,林晓调整参数,让上面的晶体透镜开始转动,X光也随之开始发生变化,辐照范围开始变化起来,在57.5度的时候,辐照范围便和光源大小相同,当超过57.5度的时候,辐照范围开始收敛凝聚,直到入射角转变为垂直的90度之

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